簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "Chao-Chang Chen".eadvisor (精準) and ckeyword.raw="銅膜晶圓"


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    拋光墊修整磨合期對銅膜晶圓化學機械拋光影響研究
    • 機械工程系 /102/ 碩士
    • 研究生: 陳鈺庭 指導教授: 陳炤彰
    • 化學機械平坦化(Chemical Mechanical Planarization, CMP)已成為積體電路製程之關鍵技術,其中拋光墊(Polishing Pad)在整個CMP製程中扮演相當重要的角…
    • 點閱:258下載:15

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    電致動力輔助化學機械平坦化應用於奈米雙晶銅圖案化晶圓平坦化研究
    • 機械工程系 /109/ 碩士
    • 研究生: 鍾誠 指導教授: 陳炤彰 呂立鑫
    • 本研究透過交錯式電極最佳化設計,以優化電致動力輔助化學機械平坦化製程(Electro-Kinetic Force Chemical Mechanical Planarization, EKF-CMP…
    • 點閱:435下載:0
    • 全文公開日期 2024/08/27 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/08/27 (校外網路)
    • 全文公開日期 2024/08/27 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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